人工濾芯清洗機的制造方法有很多，這里主要介紹熱壓法和氣相沉積法。熱壓法制造濾芯清洗機和立方氮化硼的設備是六面或兩面濾芯清洗機。壓制單晶超硬材料，原料應放在葉蠟石的空腔內(nèi)。壓制PCD單晶粉末的原料為石墨片，石墨片和催化劑鎳錳片堆疊在空腔內(nèi)；壓制聚晶濾芯清洗機的原料為聚晶濾芯清洗機單晶粉末，結(jié)合劑有鎳、硅、鈷等。被添加。立方氮化硼單晶粉末的原料是六方氮化硼(HBN)粉末。壓制PCBN聚晶的原料是立方氮化硼單晶粉末，同時催化劑和粘結(jié)劑應分開放置。

　　濾芯清洗機加壓過程中的壓力不同于增壓和終壓，葉蠟石腔中的壓力不同于頂錘中的壓力。溫度是腔體溫度。時間是加熱時間、保溫時間和冷卻時間的總和。對于不同的印刷機，這些參數(shù)會有所不同。文中給出的數(shù)據(jù)只是一個大概的數(shù)字。類似于制造PCD的熱壓法，還有“爆炸法”，在容器內(nèi)爆炸產(chǎn)生高溫高壓，將石墨轉(zhuǎn)化為濾芯清洗機。爆炸法的技術和產(chǎn)品質(zhì)量難以控制，因此很少正式使用。

　　濾芯清洗機化學氣相沉積是一種氣相沉積方法。根據(jù)這一工作原理，在非濾芯清洗機基體上沉積濾芯清洗機的方法有很多，如“熱絲CVD法”、“電子增強CVD法”、“微波PCVD法”、“射頻PCVD法”、“DC  PCVD法”、“DC電弧PCVD法”、“DC等離子體噴射CVD法”、“電子回旋共振PCVD法”、“火焰燃燒法”、“準火焰燃燒法”等，zuichangyong的是“熱絲CVD法”。

　　濾芯清洗機熱絲化學氣相沉積濾芯清洗機厚膜生長和沉積技術的原理圖，原料是乙醇、氫氣和甲烷，熱絲是鉭絲或鎢絲。熱絲加熱到2000 ~ 2500，在熱絲和基體之間施加電壓形成等離子體，使氫分子與含碳氣體分子解離，形成原子氫和能形成SP3鍵的烴基。在原子氫的作用下，該基團在適當?shù)臏囟认掳l(fā)生吸附在基體表面的化學過程，并脫氫形成濾芯清洗機的碳結(jié)構(gòu)。通過控制熱絲，外加電壓的溫度和電流密度，特別是氣體的組成、生長容器的壓力和基體溫度，可以有效地控制薄膜的生長速率和薄膜質(zhì)量。

　　濾芯清洗機在基體(基底)上形成厚膜后，有必要將膜從基體，分離，將其切割成具有一定形狀的小片，然后將小片釬焊在硬質(zhì)合金上以形成復合刀片或工具。

　　如果制造CVD薄膜濾芯清洗機工具，可以直接在工具上沉積濾芯清洗機膜，膜厚只有10  m左右，而厚膜的厚度可以達到0.5 ~ 0.6 mm以上。

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